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在si （ 111）襯底上分別預沉積0，0．1，o．5，1 nm厚度的In插入層后，采用等離子輔助分子束外延法制備了纖鋅礦結(jié)構(gòu)的I nN材料，結(jié)合x射線衍射（XRD） 、掃描電子顯微鏡（SEM） 、吸收譜及光致發(fā)光譜研究了不同厚度的I n插入層對外延I nN晶體質(zhì)量和光學特性的影響。XRD和SEM的測試結(jié)果表明，在si 襯底上預沉積O．5 nm厚的I n插入層有利于改善外延I nN材料的形貌，提高材料的晶體質(zhì)量。吸收譜和光致發(fā)光譜測試表明，0．5 nm厚I n插入層對應的I nN樣品吸收邊藍移程度最小，光致發(fā)射譜半峰寬最窄，并且有最高的帶邊輻射復合發(fā)光效率。可見，引入適當厚度的I nN插入層可以改善Si襯底上外延InN材料的晶體質(zhì)量和光學特性。
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