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中圖儀器

深圳市中圖儀器股份有限公司是一家高新技術(shù)企業(yè),致力于全尺寸鏈精密測(cè)量儀器及設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。

2.9k 內(nèi)容數(shù) 99w+ 瀏覽量 64 粉絲

優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡

型號(hào): CEM3000系列
品牌: 中圖儀器(中圖儀器)

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

  • 注釋 如有疑問或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢。

--- 產(chǎn)品詳情 ---

中圖儀器CEM3000優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡是一款用于對(duì)樣品進(jìn)行微觀尺度形貌觀測(cè)和分析的緊湊型設(shè)備。空間分辨率出色和易用性強(qiáng),用戶能夠非??旖莸剡M(jìn)行各項(xiàng)操作。甚至在自動(dòng)程序的幫助下,無需過多人工調(diào)節(jié),便可一鍵得到理想的拍攝圖片。

優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡

不同于立式電鏡,CEM3000優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡無需占據(jù)大量空間來容納整個(gè)電鏡系統(tǒng),這使其甚至能夠出現(xiàn)在用戶日常工作的桌面上,在用戶手邊實(shí)時(shí)呈現(xiàn)所得結(jié)果。

此外,該系列臺(tái)式電鏡也可以進(jìn)入手套箱、車廂還是潛水器等狹小空間內(nèi)大顯身手。即便在一些常規(guī)電鏡難以耐受的工作環(huán)境中,該系列臺(tái)式電鏡也能憑借抗振防磁技術(shù),展現(xiàn)高性能。

 

產(chǎn)品功能

1)臺(tái)式電鏡緊湊的外型,CEM3000系列臺(tái)式掃描電鏡能夠不受場(chǎng)地尺寸制約,真正做到了空間適用性,用戶甚至可以將其就近擺放在自己的桌面上。同時(shí)CEM3000也能根據(jù)用戶需求,輕松移機(jī),一臺(tái)機(jī)器多處開花;

2)高分辨率,能夠?qū)ξ⒊叽缣卣鬟M(jìn)行觀測(cè)分析,滿足用戶的觀測(cè)需求;

3)快速抽放氣,憑借真空系統(tǒng)設(shè)計(jì),該系列臺(tái)式電鏡縮短了用戶抽放氣的等待時(shí)間;

4)高易用性,能夠快速成像、一鍵出片,用戶使用自動(dòng)調(diào)節(jié)功能,無需過多人工操作,就可得到高質(zhì)量拍攝圖片;

5)大樣品倉,CEM3000A在保證較小外型尺寸同時(shí),具有比肩立式電鏡的大倉室,從而容納更大尺寸樣品;

6)高抗振防磁性能,全系列電鏡均具有優(yōu)秀的抗干擾能力,特別是CEM3000B使用本公司技術(shù),基于復(fù)合抗振手段,將掃描電鏡抗振性能提升到了新的高度;

7)可選配低真空模式,保證用戶能夠根據(jù)需要設(shè)定電鏡樣品倉內(nèi)真空度,進(jìn)而對(duì)不同類型的樣品進(jìn)行觀測(cè);

8)能夠提供多種成像參數(shù)供用戶選擇,滿足專業(yè)用戶的調(diào)節(jié)需求;

9)搭配有多種探頭,能夠?qū)悠愤M(jìn)行多種手段的分析。

優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡

應(yīng)用領(lǐng)域

該電鏡外型緊湊,空間適用性強(qiáng),整機(jī)采用大量的抗干擾設(shè)計(jì),避免使用環(huán)境造成的影響,拓寬了應(yīng)用范圍。同時(shí),該系列臺(tái)式電鏡具有非常豐富的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能,能夠?qū)Σ煌愋偷臉悠愤M(jìn)行觀測(cè),具有高空間分辨率。

用戶可在CEM3000系列臺(tái)式掃描電鏡上搭配不同的探頭,同時(shí)接收多種信號(hào),對(duì)樣品進(jìn)行分析。

應(yīng)用范例:

優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡

 

CEM3000系列優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡上還運(yùn)用了快速抽放氣設(shè)計(jì),讓用戶在使用時(shí)不再等待,且全系列可選配低真空系統(tǒng),以便精準(zhǔn)調(diào)節(jié)樣品倉內(nèi)真空度,滿足不同樣品的觀測(cè)需求。樣品一鍵裝入,自動(dòng)導(dǎo)航和一鍵出圖能力(自動(dòng)聚焦+自動(dòng)消像散+自動(dòng)亮度對(duì)比度)幫助用戶在短短幾十秒內(nèi)就可獲取高清圖像,大大提升了使用效率。

 

產(chǎn)品型號(hào)

CEM3000系列共涵蓋CEM3000A(大樣品倉型)和CEM3000B(抗振型)兩款強(qiáng)化機(jī)型,CEM3000A在不改變整機(jī)外觀尺寸的情況下,拓展了樣品倉尺寸,從而可對(duì)大尺寸樣品或多個(gè)常規(guī)尺寸樣品進(jìn)行分析。同時(shí),用戶也可選擇加裝有減振倉的CEM3000B,確保在縮短抽放氣時(shí)間的同時(shí),消除環(huán)境振動(dòng)對(duì)電鏡的影響,保證了高倍數(shù)成像時(shí)的圖像質(zhì)量。

此外,該系列電鏡也可通過加裝各類探頭和附件,滿足用戶的拓展性需求,這使其在材料科學(xué)、生命科學(xué)、納米技術(shù)、能源等多個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

優(yōu)于4nm高分辨率臺(tái)式掃描電鏡

 

部分技術(shù)指標(biāo)

型號(hào)

CEM3000A(大樣品倉型)

電子槍

燈絲

鎢燈絲

分辨率

優(yōu)于4nm(SE),優(yōu)于8nm(BSE)  @20kV

加速電壓

1 ~ 20kV

放大倍數(shù)

電子圖:40 ~ 200,000×(可選配大圖拼接)

探測(cè)器

二次電子

標(biāo)配

背散射電子

標(biāo)配(四象限高分辨探頭)

能譜儀

選配

自動(dòng)化軟件

標(biāo)配:自動(dòng)合軸、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消像散、一鍵圖像增強(qiáng)

選配:顆粒度統(tǒng)計(jì)、孔隙率測(cè)量、纖維測(cè)量、三維粗糙度重建

真空系統(tǒng)

真空度

高真空:優(yōu)于9×10-3Pa

低真空:5 ~ 100 Pa(選配)

抽真空時(shí)間

低真空模式 < 1.5min

高真空模式 < 3min

樣品臺(tái)

自動(dòng)軸

X,Y,T

手動(dòng)軸

R,Z

行程范圍

X: 50mm

Y: 50mm

R: 0°~360°(手動(dòng)旋轉(zhuǎn)、電子束旋轉(zhuǎn))

T: -22.5°~ +22.5°

Z: 45mm

 

最大樣品尺寸

70mm×70mm(水平)

45mm(高度)

倉內(nèi)相機(jī)

導(dǎo)航相機(jī)

標(biāo)配高分辨彩色相機(jī)

側(cè)視相機(jī)

標(biāo)配高分辨紅外相機(jī)

操作系統(tǒng)

圖片尺寸

Windows10 (64bit)

640×480

1280×960

2560×1920

5120×3840

10240×7680

懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

如有疑問或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢。

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    激光干涉儀檢測(cè)機(jī)床的方法(以線性檢測(cè)為例)1.進(jìn)行線性測(cè)量的一般步驟(1)安裝設(shè)置激光干涉儀(2)將激光束與被測(cè)量的軸校準(zhǔn)(3)啟動(dòng)測(cè)量軟件,并輸入相關(guān)參數(shù)(如材料膨脹系數(shù))。(4)在機(jī)床上輸入測(cè)量程序,啟動(dòng)干涉儀測(cè)量,并記錄數(shù)據(jù)。(5)用測(cè)量軟件分析測(cè)量數(shù)據(jù),生產(chǎn)補(bǔ)償文件。線性測(cè)量應(yīng)用2.光束快速準(zhǔn)直步驟(1)沿著運(yùn)動(dòng)軸將反射鏡與干涉鏡分開。(2)移動(dòng)機(jī)床工作臺(tái),當(dāng)光束離開光靶外圓時(shí)停止移動(dòng),垂
  • 白光干涉儀(光學(xué)輪廓儀):揭秘測(cè)量坑的形貌的利器!2023-10-26 10:47

    SuperViewW1白光干涉儀結(jié)合數(shù)字圖像處理技術(shù)和三維重建算法來提高測(cè)量的精度和效率,揭秘并測(cè)量坑的形貌,為科學(xué)研究和工程實(shí)踐提供更有力的支持。
  • 納米級(jí)測(cè)量儀器:窺探微觀世界的利器2023-10-11 13:49

    納米級(jí)測(cè)量儀器在納米科技研究領(lǐng)域中扮演著重要的角色。通過共聚焦顯微鏡、光學(xué)輪廓儀等的運(yùn)用,科研人員們能夠更加深入地了解納米世界的奧秘。
  • 微納共聚焦顯微鏡:檢測(cè)摩擦學(xué)研究的重難點(diǎn)2023-09-22 09:13

    針對(duì)磨損區(qū)域較大、坡度也較為陡峭的生物摩擦和流體摩擦領(lǐng)域,采用中圖VT6000系列共聚焦顯微鏡更加匹配,其遠(yuǎn)勝于光學(xué)3D表面輪廓儀的大角度測(cè)量能力和超景深觀察功能,能夠輕松勝任磨損較為嚴(yán)重的表面形貌檢測(cè),從而幫助研究人員更加精準(zhǔn)的掌握磨損量評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)。
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  • 先進(jìn)封裝廠關(guān)于Bump尺寸的管控2023-09-06 14:26

    BumpMetrologysystem—BOKI_1000在半導(dǎo)體行業(yè)中,Bump、RDL、TSV、Wafer合稱先進(jìn)封裝的四要素,其中Bump起著界面互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用。Bump是一種金屬凸點(diǎn),從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開始普遍應(yīng)用,Bump的形狀有多種,常見的為球狀和柱狀,也有塊狀等其他形狀,下圖所示為各種類型的Bump。Bump起著界面之間的電氣互聯(lián)和應(yīng)力緩沖的作用,從Bondwire
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