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• 發布了文章 2023-08-07 14:21

  inTEST熱流儀邏輯芯片 FPGA高低溫沖擊測試

  

  FPGA 芯片需要按照 JED22-A104 標準做溫度循環 TC 測試, 讓其經受極端高溫和低溫之間的快速轉換. 一般在?-55℃~150℃ 進行測試, 傳統的環境箱因為升降溫速度受限, 無法滿足研發的快速循環測試需求. 上海伯東美國 inTEST 熱流儀 ATS-710E 變溫速率約 10 s, 實現 FPGA 芯片極端高溫和低溫之間的快速轉換測

  FPGA 測試 芯片 高低溫測試機

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• 發布了文章 2023-08-07 14:14

  上海伯東分子泵應用于 LED 芯片退火合金爐

  

  LED 芯片退火合金爐屬于真空爐的一種, 需要在真空環境下實現 LED 芯片的退火, 合金, 濕氧氧化, 歐姆電極燒結等工藝. 腔體真空度一般在 10-3 至 10-6 hPa 之間, 上海伯東德國 Pfeiffer 分子泵憑借大抽速,高穩定性廣泛應用于退火合金爐設備.

  led 真空泵 芯片

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• 發布了文章 2023-08-07 14:08

  美國KRi 離子源光通信應用, 助力5G技術發展

  

  光通信的信息載體是光波,?為了進一步提高光通信系統中光信號的傳輸質量,?滿足光通信系統的使用要求,??上海伯東美國 KRi 離子源通過離子束濺射, 輔助薄膜沉積等工藝在離子束鍍膜系統中實現光模塊, 光器件等薄膜元件的精密加工. 離子源典型應用例如, 在光纖連接面鍍 AR 增透膜 (減反射膜), 達到減少光纖對光的損耗, 增加光的透過率, 減少反射的工藝效果.

  5G 光纖器 光通訊 離子源 通信

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• 發布了產品 2023-07-11 10:13

  普發分流式分子泵 SplitFlow

  

  產品型號：SplitFlow 產地：德國

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• 發布了產品 2023-07-11 10:09

  普發分子泵 HiPace 80 Neo

  

  產品型號：HiPace 80 Neo 產地：德國

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• 發布了文章 2023-07-07 14:55

  美國 KRi 考夫曼離子源應用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統

  

  上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統, 實現小規模試驗中 2-4 英寸硅片等半導體襯底表面的清潔, 確保樣品表面清潔無污染, 滿足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制備.

  離子源 系統

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• 發布了文章 2023-06-20 16:58

  Aston™ 質譜儀 ALD 工藝控制的原位計量

  

  上海伯東 Aston? 質譜分析儀是一款快速, 強大的化學特異性氣體質譜儀, 提供 ALD 過程控制解決方案, 可在這些非等離子體（“lights-off”）過程中提供原位計量和控制. 它可以實現快速, 化學特定的原位定量氣體分析, 低至十億分之幾的水平, 提供 ALD 過程控制所需的實時數據.

  工藝控制 質譜分析

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• 發布了文章 2023-06-20 16:49

  Aston 質譜儀對小開口區域的蝕刻有更高的靈敏度

  

  上海伯東日本 Aston? 質譜儀能夠進行準確且可操作的端點檢測, OA% 是傳統 OES 計量解決方案的一個數量級（1/10）. Aston? 質譜儀解決方案適用于具有高蝕刻吞吐量和大量重復相同步驟的工藝中的實時 EPD. 這是通過高信噪比 SNR 實現的, 從而避免了 OES 設備中常見的模棱兩可和復雜的多變量分析算法.

  刻蝕 檢測 蝕刻 質譜儀

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• 發布了文章 2023-06-20 16:21

  Aston 過程質譜應用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量

  

  上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數據實現了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston? 過程質譜的實時氫氣 H2 監測也降低了每個 EUV 工具的氫氣消耗

  EUV EUV光刻機 晶圓

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• 發布了文章 2023-06-20 16:17

  Aston™ 質譜分析儀保護 CVD 工藝免受干泵故障的影響

  

  上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston? 為半導體生產而設計, 作為一個強大的平臺, Aston? 可以取代多種傳統工具, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣在線監控, 診斷并在一系列應用中提供更高的控制水平, 適用于光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配

  CVD 半導體

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