高性能、高速互聯(lián)、更優(yōu)體驗(yàn)等的追求推動了移動終端與物聯(lián)網(wǎng)市場的迅猛發(fā)展。

這些日益增長的要求反過來促使芯片在功/性能上和三維構(gòu)架上的集成度不斷提高，這就帶來了半導(dǎo)體工藝及技術(shù)的新需求與挑戰(zhàn)。尤其是芯片前道工藝尺寸縮減與后道封裝，正走向越來越精細(xì)化與復(fù)雜化。作為快速消費(fèi)電子產(chǎn)品中的核心“大腦”的芯片，追求其成本的降低和良率的提升顯然成為驅(qū)動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)工藝不斷改進(jìn)演化的原動力。

誠如管理學(xué)大師彼得德魯克所說——能測量，始能改善。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)前道后道工藝的持續(xù)改進(jìn)也一直是建立在對每一個檢測節(jié)點(diǎn)的可靠可重復(fù)的測量基礎(chǔ)上的。無論是從Si到GaAs再到SiC等材料更新，還是工藝流程日新月異的突破，都會對工藝提出挑戰(zhàn)，沖擊良率。因而，量測設(shè)備和儀器在此過程中越來越重要，實(shí)時、全方位的監(jiān)控對測量技術(shù)本身提出了更高的要求。

從前道三極管關(guān)鍵尺寸的精準(zhǔn)測量到后道封裝中互聯(lián)導(dǎo)線的三維尺寸，從器件設(shè)計(jì)時預(yù)想的電學(xué)特征到實(shí)際生產(chǎn)出來后的電學(xué)性能，再到新材料新工藝運(yùn)用造成的器件機(jī)械性能的變化等等都會直接影響到芯片的使用性能和可靠性，從而影響良率。

今天，以原子力顯微鏡技術(shù)、三維光學(xué)式輪廓技術(shù)和納米壓/劃痕技術(shù)等為代表的量測技術(shù)正在全球范圍內(nèi)每時每刻被廣泛使用，持續(xù)解決上述挑戰(zhàn)。不但直接使用在無塵室大規(guī)模產(chǎn)品的生產(chǎn)現(xiàn)場和研發(fā)中心以及失效分析實(shí)驗(yàn)室，也被大量使用在大學(xué)、研究所等科研領(lǐng)域，用以開發(fā)更先進(jìn)的材料與工藝。

原子力顯微鏡技術(shù)

原子力顯微鏡技術(shù)作為當(dāng)今世界上具有最高分辨率測量和成像的工具，在垂直方向低于埃級，水平方向?yàn)榧{米級。當(dāng)使用特殊導(dǎo)電探針時，通過布魯克首創(chuàng)的掃描擴(kuò)展電阻、掃描電容顯微鏡等模式，可以直接測量摻雜后載流子的極性與濃度分布梯度，用于離子注入或爐管、快速反應(yīng)退火等工藝的精準(zhǔn)監(jiān)控。而通過導(dǎo)電原子力顯微鏡則可以直接獲取伏安曲線，測量鎢柱是否良好接觸，用于物理氣相沉積時種子層和鎢柱填充等工藝的失效分析。

圖一 掃描擴(kuò)展電阻顯微鏡

圖二 垂直異質(zhì)結(jié)隧穿場效應(yīng)晶體管

圖三 CMOS影像傳感器結(jié)構(gòu)

圖一是掃描擴(kuò)展電阻顯微鏡（SSRM）原理示意圖。圖二為SSRM在垂直異質(zhì)結(jié)TFET結(jié)構(gòu)斷面數(shù)據(jù)，該技術(shù)優(yōu)異之處在于量程廣而精度高，通過顏色不同襯度直觀顯示出幾十至幾百納米的結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)，右圖左側(cè)標(biāo)尺定量出電阻數(shù)據(jù)。圖三通過SSRM顯示出CMOS影像傳感器中單顆像素點(diǎn)的載離子的二維分布高清圖像，而CMOS正是目前大量使用的手機(jī)攝像模組的核心單元。此外，布魯克原子力顯微鏡還具備掃描電容顯微鏡（SCM）、掃描微波阻抗顯微鏡（sMIM）等多種電學(xué)測量模塊，廣泛使用于半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)分析。

白光干涉技術(shù)

后道封裝從有基片（substrate-based）的鍵合（WireBond）到倒裝(Flip Chip)發(fā)展到扇出式晶圓級封裝(Fan-Out Wafter Level Packaging)，經(jīng)歷著不斷的技術(shù)與成本挑戰(zhàn)。但正如市場上一、二、三代半導(dǎo)體技術(shù)并存一樣，前述封裝工藝在不同應(yīng)用場景的芯片封裝中都在使用。以下以全球封裝領(lǐng)先的安靠公司的SWIFT^TM（Silicon Wafer Integrated Fan-Out Technology）為例，展示布魯克的白光干涉技術(shù)是如何在封裝工藝中實(shí)現(xiàn)快速可靠監(jiān)控的。

圖四SWIFT工藝流程

圖五 銅柱典型工藝監(jiān)控?cái)?shù)據(jù)

圖六 PCB封裝工藝典型監(jiān)控?cái)?shù)據(jù)

圖四是SWIFT工藝流程。圖五左側(cè)展示了RDL(Re-distributed layer)和UBM（Under bump metallization）經(jīng)白光干涉測得的三維形貌效果，線條分布、圖案高低一目了然，中間和右側(cè)選擇了局部圖案具體分析了銅柱（pillar）的高度、直徑、表面粗糙度等，線條的高寬，光刻膠的厚度，以及芯片封好后表面激光加工產(chǎn)品logo的圖案的最大深度（確保不損傷內(nèi)部芯片）。圖六左側(cè)是可以直接測量600x600mmPCB板（包含硬軟板，厚窄板）的白光干涉儀，右側(cè)是典型測試圖案，來確保工藝滿足要求（如目前窄板工藝線條線寬已經(jīng)可以達(dá)到7微米，其在線監(jiān)控要求已非常嚴(yán)苛）。

納米壓痕、劃痕技術(shù)

對于3D堆疊式封裝而言，各層器件間以及器件內(nèi)由于各種材料的物理性能尤其是熱膨脹性能不同，或者特定的幾何結(jié)構(gòu)（如硅穿孔，TSV）等會造成封裝時嚴(yán)重的形變和應(yīng)力產(chǎn)生，對器件的可靠性與失效分析表明：薄膜自身、薄膜與基體、電路圖案與基板等的各種物性都是應(yīng)該考察的關(guān)鍵因素。而納米壓痕、劃痕技術(shù)可以在微納米尺度上對材料局域的物理性能提供準(zhǔn)確而定量可靠的測量數(shù)據(jù)，為工藝模擬與監(jiān)控提供了途徑。

圖七 300mm晶圓上模量與結(jié)合力譜圖（左）和斷裂韌性測試圖

圖八 電鏡中觀測納米劃痕過程觀察與數(shù)據(jù)采集

圖九 填銅的TSV升溫后三維形貌（左）與微銅柱結(jié)合力測試

圖七左側(cè)是通過納米壓痕和劃痕技術(shù)對層間電介質(zhì)的low k材料在整張300mm硅片上測試的模量和結(jié)合力譜圖，右側(cè)是對薄膜材料斷裂韌性測試的典型結(jié)果(原位掃描探針顯微鏡圖)。圖八左側(cè)顯示了在電鏡中觀測納米劃痕從劃入薄膜（A）到薄膜開裂（B）至薄膜剝落（C），最終探頭劃入基體（D）的全過程，而右側(cè)的數(shù)據(jù)是實(shí)時采集的全過程正壓力、切向力與時間的關(guān)系，完美揭示此薄膜失效機(jī)制并定量給出膜基結(jié)合力。圖九左側(cè)顯示了TSV結(jié)構(gòu)填完銅后在400°C高溫下由于熱膨脹系數(shù)（CTE）不同，從Si孔中凸起的形貌，而右側(cè)是利用壓頭直接推動微銅柱（μ-bump）來考察其與底下保護(hù)層（passivation layer）的結(jié)合強(qiáng)度，這種測試均可得到可重復(fù)的定量數(shù)據(jù)。