01 半導體光照產業項目
項目概況
本項目依托“中國半導體之父”張博士的技術支撐,于杭紹臨空經濟一體化發展示范區紹興片區(紹興市柯橋區錢清街道錢清村)新增土地,新增建筑面積4.84 萬平方米,購置曝光機、烘烤機、蝕刻機、顯影機、光阻涂布機、清洗機等設備,年生產光罩 36000 片。
項目概況
浙江芯科半導體有限公司總投資 100000 萬元,新征建設用地 38.81 畝,新增研發、測試及制造廠房等地上建筑面積 65715.57m2,新增地下建筑面積 3628.8m2,項目為計算機、通信和其他電子設備研發制造外延制備實驗室和工藝共性平臺,用于研發及生產 2 英寸碳化硅 MOSFET 功率芯片產品,項目建成后達到年產 10 萬片 2英寸碳化硅 MOSFET 功率芯片的生產規模。
03 6英寸半導體特色工藝研發及產業化項目
項目概況
項目總投資317698萬元,租用大橋鎮新大路 232號67651.32廠房,購置光刻機、涂膠顯影機、干法刻蝕機、濕法刻蝕機、離子注入、濺射機、PECVD、擴散爐等設備,形成年產64萬片6英寸功率器件特色半導體的生產能力。
04 年產1.6億條引線框架生產項目
項目概況
建設單位已拍土地33248平方米,新建標準廠房、宿舍樓等建筑面積約76941.84平方米(廠房建設項目另行備案實施,本項目不再涉及),采用引線框架銅帶、氰化銀、氰化銀鉀等原材料,經前清洗、壓膜、曝光、顯影蝕刻、電鍍、分切、后處理、檢測等技術或工藝,購置卷式自動清洗線、卷式自動貼膜機、卷式顯影蝕刻退膜機、各類電鍍生產線等國產設備;項目建成后,形成年產1.6億條引線框架的生產能力。本項目電鍍生產線僅用于對企業自身產品加工生產,不對外加工。
05 集成電路用半導體大硅片擴建項目
項目概況
本項目將租用芯聯集成現有已建A2模組生產廠房閑置區域,建設一條月產0.5萬片的6/8英寸兼容碳化硅MOS芯片制造生產線,先形成6英寸碳化硅MOS規?;圃旒凹夹g的持續研發和產品積累,待國內8英寸碳化硅襯底片和外延片具備批量供應能力后,快速切換到8英寸,以實現碳化硅MOS產業化制造6英寸向8英寸快速轉移,本項目建成后將形成6/8英寸碳化硅晶圓6萬片/年的生產規模。
06 新建碳化硅封測建設項目
項目概況
擬在該地塊建設標準生產廠房及配套設施,并購置碳化硅功率模塊生產線、碳化硅分立器件生產線等半導體封裝設備,實施新建碳化硅封測建設項目。
07 集成電路用半導體大硅片擴建項目
項目概況
企業投資10億元,新建生產廠房,總建筑面積1.448萬平方米。項目引進集成電路封裝測試生產線,同時配置空壓機、冷水機組等輔助配套設施,新增就業人1000余人,年開工300天,三班制生產,主要從事傳感器、存儲器、CPU等器件的封裝和測試。形成年產100億片集成電路的封裝測試生產規模。
08 年產600萬片半導體功率器件用DPC陶瓷基板技改項目
項目概況
企業擬投資60000萬元,租用位于金華金東區江東鎮金獅路828號天邁控股股份有限公司現有閑置廠房,引進DPC直接鍍銅生產線,從事陶瓷線路基板的生產加工,建成后可形成年產600萬片半導體功率器件用DPC陶瓷基板的生產能力。
09 半導體基板300萬片生產建設項目
項目概況
項目不新增土地,利用姜賢路 385 號內公司廠房一面積 2950 平方米。項目擬采購高端研磨機、新型全自動拋光機、高速多線切割機等設備,項目達產后實現年產超瓷晶手機屏組件 1700 萬片和半導體基板 300 萬片。
10 FCBGA封裝基板項目
項目概況
本項目分三期建設,一期建設內容為 1#廠房、宿舍一、廢水和廢液處理設施、危化品庫、危廢庫等,年產 18.72 萬片 FCBGA 高端載板的生產及配套設施;二期建設內容為研發樓、年產 9.36 萬片 FCBGA 高端載板的生產及配套設施;三期建設內容為 2#廠房、年產 28.08 萬片 FCBGA 高端載板的生產及配套設施。
11 半導體高功率元器件生產和研發二期擴產項目
項目概況
企業租賃海寧經濟開發區海寧宏廈裝飾新材料科技有限公司廠房 50000 平方米,總投資 55000 萬元,引進氮化鋁預氧化爐(進口),燒結爐(國產)、真空濺鍍線(國產)、填孔電鍍線(國產)、激光切割機(國產)等設備。投產后形成年產雙面氧化鋁覆銅陶瓷基板 1680 萬片、單面氧化鋁覆銅陶瓷基板1560 萬片、氮化鋁覆銅陶瓷基板 240 萬片、高附加值氮化鋁覆銅陶瓷基板 6 萬片、銅板(副產)356.18 噸的生產能力。
12 年產60萬套IGBTHPD及5萬套SiC功率模塊技改項目
項目概況
本次一期工廠項目總投資 31355.61 萬元,建設兩條 IGBTHPD 生產線和一條SiC生產線,年產 60 萬套 IGBT(絕緣柵雙極型晶體管)HPD 功率模塊和5 萬套SiC功率模塊。
審核編輯 黃宇
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