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上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司取得專利

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-04-22 16:53 ? 次閱讀

據(jù)悉,上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司近期成功獲得了“一種嵌入式存儲(chǔ)器參數(shù)測(cè)試分類篩選方法”的專利權(quán),該專利公開號(hào)為CN112820340B,生效日期為2024年4月16日,申請(qǐng)時(shí)間為2021年2月5日。

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這項(xiàng)專利技術(shù)主要包括四個(gè)步驟:首先,確定存儲(chǔ)器電參數(shù)的調(diào)整范圍;其次,進(jìn)行晶圓測(cè)試獲取實(shí)際測(cè)量的電參數(shù);接著,將這些數(shù)據(jù)記錄在日志文件中;最后,對(duì)日志文件中的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,生成測(cè)試晶圓圖譜。此方法通過記錄每顆晶圓的電參數(shù)調(diào)整值,能夠有效地排除異常芯片,提供可靠的風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警機(jī)制,從而提升芯片的可靠性水平。

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