國內(nèi)光學領域的權威雜志《光學學報》第43卷第15號（網(wǎng)絡出版2023 - 08 - 15）登載題為《極紫外***曝光系統(tǒng)光學設計研究與進展》的特別邀請，發(fā)表了一篇論述，北京理工大學光電學院光電影像技術及系統(tǒng)教育部重點實驗室李燕（艷秋組對國內(nèi)外相關科研進展，發(fā)表了一篇論述。

論文介紹說，2002年，中國科學院長春光學精密機械及物理研究所研制出國內(nèi)最早由Schwarzschild物鏡組成的euv光角原理實驗裝置，實現(xiàn)了0.75米特征大小的曝光。2017年，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所開發(fā)了小時礦場euv暴露光學系統(tǒng)，報告顯示由雙面反光鏡組成的投影物鏡波譜差rms優(yōu)于0.75納米。建立了euv靜止曝光裝置，獲得了32納米線寬的光刻膠曝光圖形。建立了euv***核心技術驗證及工程測試平臺。

對于euv物鏡系統(tǒng)設計，本論文評價說，國內(nèi)對均勻率euv光角物鏡系統(tǒng)設計進行了很多研究。目前物鏡系統(tǒng)的光學設計已達到國際先進水平。變化倍率光角物鏡的光學設計在國內(nèi)外都處于深入研究階段。北京理工大學和中國科學院長春光學精密機械及物理研究所對na為0.33和na為0.55的euv曝光系統(tǒng)的光學設計進行了長期的深入研究，設計方法和效果可以與國際上已經(jīng)公開的同類設計相媲美。

綜述總結，目前在國內(nèi)的研究中，物鏡聚焦系統(tǒng)和照明系統(tǒng)的設計，誤差分析暴露；熱變形分析及控制研究系統(tǒng)北京理工大學和中國科學院長春光學精密機械與物理研究所高性能很久euv照片大物及照明系統(tǒng)的設計研究，智慧及有效的國際公布的同類設計類似的水平，中國的euv的***的研制打下了良好的基礎，培養(yǎng)了大量的人才。