4月1日，北京大學光纖國重“先進光子集成”公共平臺正式開放運行，對校內外開放用戶培訓與設備預約。該平臺依托區域光纖通信網與新型光通信系統國家重點實驗室（北京大學）。國重實驗室為加強光子芯片領域的研究能力，在已有高速光通信/光電子測試、高速通信網絡測試等研究條件基礎上，投入4000余萬元建設“先進光子集成中心”平臺（advanced photonic integration center, APIC），新建超凈間面積200平米，購置部署成套大型微加工與測試設備，以保障工藝制程的連續性和一致性，可大幅縮短工藝迭代周期，極大助力光子芯片方向的研究工作。平臺旨在建成集微米、納米加工、制造和檢測手段于一體的開放式、一站式科研實驗室，為校內外用戶的科研工作提供有效支撐。

平臺加工測試能力

該平臺擁有超凈間面積約300平方米，其中百級潔凈區50平米，配備了可完整涵蓋微加工需求的大、中、小型設備，包括電子束曝光機、掃描電鏡、磁控濺射儀、等離子刻蝕機、快速退火爐、精密貼片機、勻膠機、離子濺射儀、膜厚計、原子力顯微鏡、任意波形發生器、高速采樣示波器、信號分析儀、網絡分析儀等。

該平臺定位于微納技術發展前沿，結合校內電子、集成電路、物理、化學、材料等相關學科的需求特點，建設了基于多種半導體襯底材料的微米/納米圖形制備、薄膜沉積/生長、干法及濕法刻蝕、表征測試及封裝的體系化、模塊化工藝鏈，適用于微納電子器件、光電子器件、功率器件、MEMS、二維材料器件、柔性/可穿戴電子器件、集成電路芯片等工藝的微納加工，可為校內外師生在多領域、交叉學科開展前沿科學研究和技術開發提供良好的技術支持。

該平臺的獨特優勢在于高精度微納加工能力。光子器件中納米級的加工誤差即可能造成器件性能的顯著差異。與北京大學校內已有公共平臺相比，該平臺設備配置顯著提升了加工精度，配有校內首臺125 kV高壓電子束曝光機，可提升微納結構曝光精度至8 nm左右；具備了從曝光、顯影、刻蝕、表征、封裝的全工藝閉環。

平臺開放服務

該平臺擬實行7天分時段開放服務，電子束曝光機、掃描電鏡、磁控濺射等儀器設備擬開放服務機時均達2000小時。用戶可直接在網站查閱設備參數、功能、收費標準及設備管理員聯系方式，了解相關信息，根據用戶需求完成設備培訓與考核，開通設備使用權限，并通過網站進行在線設備預約。

該平臺將不斷研究開發新工藝，滿足用戶不同學科方向的加工測試需求。目前，該平臺依托于區域光纖通信網與新型光通信國家重點實驗室，建立了一支具備專業背景的管理團隊，努力成為世界一流的開放共享微納技術平臺。平臺設備試運行期間，在平臺開展研究工作的課題組已達數十個。

北京大學將加速實現建設有中國特色世界頂級一流大學的目標，為國內外的科研人員提供廣闊的合作和交流平臺，推動中國光子學事業的發展。該平臺的運行將有效補充校內微納加工能力，緩解工藝設備機時緊張的局面，與北京大學校內已有平臺互為后備力量，改善校內各課題組的科研硬件條件。平臺設備開放將優先滿足校內單位的大批量高精度加工需求，同時在遵循相關政策的前提下服務校外用戶，提供社會效益。

審核編輯 ：李倩