電子發燒友網報道(文/李彎彎)日前,歐盟成員國同意投入超過430億歐元用于發展芯片行業,旨在扶持本土芯片供應鏈,減少對美國和亞洲制造商的依賴。
今年2月,歐盟委員會公布了備受關注的《芯片法案》,計劃大幅提升歐盟在全球的芯片生產份額。歐洲在芯片生產中所占的份額從2000年的24%下降到了如今的8%,而《芯片法案》的目標是到2030年將這一數字提升到20%。
歐洲為何要加強半導體產業發展
歐洲在全球半導體產業中占據重要位置,在功率半導體、光刻機、IP領域,歐洲企業的市場份額分別占到全球的26%、60%和41%。全球知名企業英飛凌、恩智浦、意法半導體都來自歐洲,在過去二三十年間,這些企業可以說長期排在全球前二十。
雖然歐洲憑借在半導體領域較早發展起來的優勢,在汽車、工業等領域占據一定位置,然而隨著全球半導體產業的發展,由于客戶主要在歐洲之外,英飛凌、恩智浦、意法半導體等企業逐漸將大部分產能設在歐洲之外,以至于歐洲在產能方面不具優勢。
有數據統計,2015年歐洲企業中還有三分之二在歐洲本地生產,而到了2020年就只剩下55%。另外歐洲企業也將非核心產品委托給代工廠生產,而這些代工廠多數不在歐洲。在純晶圓代工廠方面,歐洲的銷售額在全球的占比也是從十年前的10%下降到了2020年的6%。
而且歐洲絕大多數晶圓廠都是成熟制程,先進制程推進緩慢。這就使得歐洲在芯片產能方面嚴重依賴外部產能。過去幾年全球芯片產能嚴重不足,因為芯片缺貨,歐洲不少產能受到影響,尤其是汽車,歐洲對美國、亞洲制造依賴的問題也暴露了出來。
為了促進產業發展,歐洲各國先后制定了多個發展計劃。其中備受矚目的便是這份《芯片法案》。該法案的目的旨在確保歐盟擁有必要的工具、技能和技術能力,實現先進芯片設計、制造、封裝等領域的提升,從而保證歐盟的半導體供應鏈穩定,并減少外部依賴。
歐盟委員會主席馮德萊恩在2月推出這項計劃時稱,《芯片法案》可以改變歐盟的全球競爭力。短期內,它將使歐盟能預測并避免供應鏈中斷,中期看,它能幫助歐盟成為芯片市場的領軍者。
歐盟輪值主席國捷克日前表示,各國特使一致同意歐盟委員會提案的修訂版,修改部分包括允許政府對更廣泛的芯片提供補貼,而不僅僅是最先進的芯片。補貼將覆蓋在計算能力、能源效率、環境效益和人工智能方面帶來創新的芯片。最新版本還增加了對歐盟委員會的限制措施,以防止該機構在觸發緊急情況時干預公司的供應鏈。
歐盟各國部長將于當地時間12月1日舉行會議,預計將批準芯片計劃。不過,該計劃仍須于明年在歐洲議會得到通過,才能成為法律。
不過雖然這項計劃要等到明年才能最終確定,但已有多家公司宣布了在歐洲建立芯片工廠的計劃,其中包括英特爾、格芯、意法半導體和英飛凌。今年7月,意法半導體就對外表示和法國政府合作建廠,計劃新建的工廠將毗鄰STM位于法國克羅萊(Crolles)的現有工廠,目標是到2026年達到滿負荷生產,每年可生產多達62萬片18納米尺寸的晶圓。
歐洲大手筆投入,將帶動產業鏈上游發展
歐洲大手筆投入半導體產業,尤其是在芯片產能上的提升。如果順利,接下來,隨著歐洲本地和外地企業進入歐洲建廠,這無疑會對半導體產業鏈上游企業起到不少的帶動作用,比如半導體設備,在半導體產線建設上,半導體設備是其中很大的一塊投入。
具體來看,在晶圓制造過程需要用到多種類型的設備,根據電子發燒友此前的報道,一條制造先進集成電路產品的生產線投資中,設備價值約占到總投資規模的70%-80%,當制程到16/14nm時,設備投資占比達85%,7nm及以下占比將更高。
半導體制造一般可分為前道工藝和后道工藝,前道指晶圓制造,后道指封裝測試,根據SEMI的數據統計,從以往銷售額來看,前道制造設備在半導體專用設備市場中占比為80%左右,后道封裝測試設備占比為20%左右。
前道晶圓制造大概包括氧化退火、CVD沉積、光刻曝光、刻蝕、離子注入、PVD鍍膜、CMP拋光、清洗等工藝流程。其中用于光刻工藝的光刻機,在前道設備中市場份額占比達到20%。
刻蝕工藝環節會用到刻蝕設備,干法刻蝕通過電漿將光刻膠上的圖形轉移至硅片上,刻蝕設備占前道設備中市場份額的24%;CVD沉積通過化學反應將氣體物質沉積在硅片上形成薄膜,CVD化學氣相沉積設備占前道設備中市場份額的19%。
對應上述各個工藝環節還會用到離子注入設備、PVD物理氣相沉積設備、CMP設備、清洗設備、前道量測設備等,在前道設備中的市場份額占比分別為4%、6%、3%、7%、12%。
全球半導體設備企業主要有哪些呢?根據CINNO Research發布的今年上半年上市公司的營收統計,全球排名前十半導體設備上市公司依次是應用材料(AMAT)、阿斯麥(ASML)、泛林(LAM)Tokyo Electron(TEL)、科磊(KLA)、迪恩士(Screen)、愛德萬測試(Advantest)、日立高新(Hitachi High-Tech)、ASM 國際(ASMI)、迪斯科(Disco)。
其中應用材料(AMAT)、泛林(LAM)、科磊(KLA)來自美國,Tokyo Electron(TEL)、迪恩士(Screen)、愛德萬測試(Advantest)、日立高新(Hitachi High-Tech)、迪斯科(Disco)來自日本,阿斯麥(ASML)、ASM 國際(ASMI)來自荷蘭。
各企業經營的業務有所不同,比如美國的應用材料(AMAT)是全球最大的半導體設備商,業務幾乎貫穿整個半導體工藝制程,產品包括薄膜沉積(CVD、PVD 等)、離子注入、刻蝕、快速熱處理、化學機械平整(CMP)、測量檢測等設備。泛林(LAM)主營半導體制造用刻蝕設備、薄膜沉積設備以及清洗等設備。科磊(KLA)是半導體工藝制程檢測量測設備龍頭。
日本的Tokyo Electron(TEL)產品包含涂膠顯像設備、熱處理設備、干法刻蝕設備、化學氣相沉積設備、濕法清洗設備及測試設備。迪恩士(Screen)的產品包含刻蝕、涂膠顯影和清洗等設備。迪斯科(Disco)主營半導體制程用各類精密切割,研磨和拋光設備。
荷蘭的阿斯麥(ASML)是全球第一大光刻機設備商,也是全球唯一可提供7nm先進制程的EUV光刻機設備商。
可想而知,隨著歐洲芯片產業的發展提上日程,半導體設備作為半導體產業發展的基石,將會迎來一波機會,除了上述提到的半導體設備企業之外,國內外眾多半導體設備企業都可能在這波市場機遇中獲得機會。當然除了半導體設備,半導體產業鏈上游的材料也不例外。
今年2月,歐盟委員會公布了備受關注的《芯片法案》,計劃大幅提升歐盟在全球的芯片生產份額。歐洲在芯片生產中所占的份額從2000年的24%下降到了如今的8%,而《芯片法案》的目標是到2030年將這一數字提升到20%。
歐洲為何要加強半導體產業發展
歐洲在全球半導體產業中占據重要位置,在功率半導體、光刻機、IP領域,歐洲企業的市場份額分別占到全球的26%、60%和41%。全球知名企業英飛凌、恩智浦、意法半導體都來自歐洲,在過去二三十年間,這些企業可以說長期排在全球前二十。
雖然歐洲憑借在半導體領域較早發展起來的優勢,在汽車、工業等領域占據一定位置,然而隨著全球半導體產業的發展,由于客戶主要在歐洲之外,英飛凌、恩智浦、意法半導體等企業逐漸將大部分產能設在歐洲之外,以至于歐洲在產能方面不具優勢。
有數據統計,2015年歐洲企業中還有三分之二在歐洲本地生產,而到了2020年就只剩下55%。另外歐洲企業也將非核心產品委托給代工廠生產,而這些代工廠多數不在歐洲。在純晶圓代工廠方面,歐洲的銷售額在全球的占比也是從十年前的10%下降到了2020年的6%。
而且歐洲絕大多數晶圓廠都是成熟制程,先進制程推進緩慢。這就使得歐洲在芯片產能方面嚴重依賴外部產能。過去幾年全球芯片產能嚴重不足,因為芯片缺貨,歐洲不少產能受到影響,尤其是汽車,歐洲對美國、亞洲制造依賴的問題也暴露了出來。
為了促進產業發展,歐洲各國先后制定了多個發展計劃。其中備受矚目的便是這份《芯片法案》。該法案的目的旨在確保歐盟擁有必要的工具、技能和技術能力,實現先進芯片設計、制造、封裝等領域的提升,從而保證歐盟的半導體供應鏈穩定,并減少外部依賴。
歐盟委員會主席馮德萊恩在2月推出這項計劃時稱,《芯片法案》可以改變歐盟的全球競爭力。短期內,它將使歐盟能預測并避免供應鏈中斷,中期看,它能幫助歐盟成為芯片市場的領軍者。
歐盟輪值主席國捷克日前表示,各國特使一致同意歐盟委員會提案的修訂版,修改部分包括允許政府對更廣泛的芯片提供補貼,而不僅僅是最先進的芯片。補貼將覆蓋在計算能力、能源效率、環境效益和人工智能方面帶來創新的芯片。最新版本還增加了對歐盟委員會的限制措施,以防止該機構在觸發緊急情況時干預公司的供應鏈。
歐盟各國部長將于當地時間12月1日舉行會議,預計將批準芯片計劃。不過,該計劃仍須于明年在歐洲議會得到通過,才能成為法律。
不過雖然這項計劃要等到明年才能最終確定,但已有多家公司宣布了在歐洲建立芯片工廠的計劃,其中包括英特爾、格芯、意法半導體和英飛凌。今年7月,意法半導體就對外表示和法國政府合作建廠,計劃新建的工廠將毗鄰STM位于法國克羅萊(Crolles)的現有工廠,目標是到2026年達到滿負荷生產,每年可生產多達62萬片18納米尺寸的晶圓。
歐洲大手筆投入,將帶動產業鏈上游發展
歐洲大手筆投入半導體產業,尤其是在芯片產能上的提升。如果順利,接下來,隨著歐洲本地和外地企業進入歐洲建廠,這無疑會對半導體產業鏈上游企業起到不少的帶動作用,比如半導體設備,在半導體產線建設上,半導體設備是其中很大的一塊投入。
具體來看,在晶圓制造過程需要用到多種類型的設備,根據電子發燒友此前的報道,一條制造先進集成電路產品的生產線投資中,設備價值約占到總投資規模的70%-80%,當制程到16/14nm時,設備投資占比達85%,7nm及以下占比將更高。
半導體制造一般可分為前道工藝和后道工藝,前道指晶圓制造,后道指封裝測試,根據SEMI的數據統計,從以往銷售額來看,前道制造設備在半導體專用設備市場中占比為80%左右,后道封裝測試設備占比為20%左右。
前道晶圓制造大概包括氧化退火、CVD沉積、光刻曝光、刻蝕、離子注入、PVD鍍膜、CMP拋光、清洗等工藝流程。其中用于光刻工藝的光刻機,在前道設備中市場份額占比達到20%。
刻蝕工藝環節會用到刻蝕設備,干法刻蝕通過電漿將光刻膠上的圖形轉移至硅片上,刻蝕設備占前道設備中市場份額的24%;CVD沉積通過化學反應將氣體物質沉積在硅片上形成薄膜,CVD化學氣相沉積設備占前道設備中市場份額的19%。
對應上述各個工藝環節還會用到離子注入設備、PVD物理氣相沉積設備、CMP設備、清洗設備、前道量測設備等,在前道設備中的市場份額占比分別為4%、6%、3%、7%、12%。
全球半導體設備企業主要有哪些呢?根據CINNO Research發布的今年上半年上市公司的營收統計,全球排名前十半導體設備上市公司依次是應用材料(AMAT)、阿斯麥(ASML)、泛林(LAM)Tokyo Electron(TEL)、科磊(KLA)、迪恩士(Screen)、愛德萬測試(Advantest)、日立高新(Hitachi High-Tech)、ASM 國際(ASMI)、迪斯科(Disco)。
其中應用材料(AMAT)、泛林(LAM)、科磊(KLA)來自美國,Tokyo Electron(TEL)、迪恩士(Screen)、愛德萬測試(Advantest)、日立高新(Hitachi High-Tech)、迪斯科(Disco)來自日本,阿斯麥(ASML)、ASM 國際(ASMI)來自荷蘭。
各企業經營的業務有所不同,比如美國的應用材料(AMAT)是全球最大的半導體設備商,業務幾乎貫穿整個半導體工藝制程,產品包括薄膜沉積(CVD、PVD 等)、離子注入、刻蝕、快速熱處理、化學機械平整(CMP)、測量檢測等設備。泛林(LAM)主營半導體制造用刻蝕設備、薄膜沉積設備以及清洗等設備。科磊(KLA)是半導體工藝制程檢測量測設備龍頭。
日本的Tokyo Electron(TEL)產品包含涂膠顯像設備、熱處理設備、干法刻蝕設備、化學氣相沉積設備、濕法清洗設備及測試設備。迪恩士(Screen)的產品包含刻蝕、涂膠顯影和清洗等設備。迪斯科(Disco)主營半導體制程用各類精密切割,研磨和拋光設備。
荷蘭的阿斯麥(ASML)是全球第一大光刻機設備商,也是全球唯一可提供7nm先進制程的EUV光刻機設備商。
可想而知,隨著歐洲芯片產業的發展提上日程,半導體設備作為半導體產業發展的基石,將會迎來一波機會,除了上述提到的半導體設備企業之外,國內外眾多半導體設備企業都可能在這波市場機遇中獲得機會。當然除了半導體設備,半導體產業鏈上游的材料也不例外。
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