光電導材料
光電導材料是指光照下呈現電導急劇增加的材料,廣泛用于靜電復印、靜電制版、全息照相、激光打印等領域。主要的光電導材料有硒系光電導材料、有機光電導材料和無定形硅系列光電導材料。
光敏電阻材料
光敏電阻材料是光照下電導率能發生改變的物體。在光敏電阻材料中,除了晶體結構外,禁帶寬度對其性能影響甚大。光敏電阻是均質型半導體光電器件,選用禁帶寬、遷移率大的N型半導體可獲得大的增益。
光敏電阻通常采用蒸發的方法制得0.3~1μm大小的晶粒聚合而成的1μm厚的多孔結構。常用光敏電阻材料有硫化鉛、碲化鉛、砷化鉛、硫化鎘、銻化銦等。單晶型硫化鎘對可見光及X、α、β和γ射線都很靈敏。但受單晶層尺寸限制,光電流容量小。多晶型硫化鎘可制成光電流大和光譜靈敏范圍較寬的光敏電阻,但響應時間較長。硒化鎘比硫化鎘的光譜靈敏范圍大,響應速度快,但低溫性能較差。
審核編輯黃昊宇
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光敏電阻
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