臺積電將2024年獲高NA EUV光刻機 助于2nm工藝量產
最近，據報道，臺積電將于2024年收購下一代Asmail的最新極紫外光刻設備，為客戶開發相關基礎設施和架構解決方案。
據消息稱，臺積電可能會在2025年正式推出2nm工藝，而市場普遍樂觀地認為，臺積電的2nm工藝技術正在全面領先三星和英特爾。根據數據，臺積電的2nm工藝將采用GAAFET架構，在相同功耗下，該架構比臺積電3nm工藝快10%至15%，在相同能耗下低25%至30%。應用包括移動計算、高性能計算和完整的小芯片集成解決方案。
根據之前公布的信息，High NA EUV光刻設備的單價估計為4億美元（約28億元人民幣），是現有EUV光印設備的兩到三倍。據報道，這種新型EUV系統可以實現0.55數值孔徑，與之前配備0.33數值孔徑透鏡（TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C）的EUV系統相比，精度將得到提高，并且可以實現更高分辨率的圖形。
預計N2工藝將于2024年底準備好進行風險生產，并將于2025年底進入大規模生產，客戶將于2026年收到首批芯片。
綜合超能網、天極網和IT之家整合
審核編輯：郭婷
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
臺積電
+關注
關注
44文章
5652瀏覽量
166688 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1153瀏覽量
47456
發布評論請先 登錄
相關推薦
臺積電設立2nm試產線
最大產能，從而滿足蘋果、高通、聯發科等多家客戶的需求。 據悉，臺積電新竹寶山廠(Fab20)啟動了2納米制程的試產線的月產能規劃約為3000至3500片。隨著技術的不斷成熟和生產線的逐
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機，加快開發1nm 芯片 ? 據報道，三星電子正準備在2025年初引入其首款Hi
發表于 10-31 10:56
?829次閱讀
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意，未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭（包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV
買臺積電都嫌貴的光刻機，大力推玻璃基板，英特爾代工的野心和危機
電子發燒友網報道（文/吳子鵬）此前，臺積電高級副總裁張曉強在技術研討會上表示，“ASML最新的高數值孔徑極紫外光刻機（high-
ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機，已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發貨了第二臺High NA EUV光刻機，并且已成功印刷出10納米線寬圖案，這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
今日看點丨傳臺積電2nm制程加速安裝設備；吉利汽車新一代雷神電混系統年內發布
）架構量產暖身，預計寶山P1、P2及高雄三座先進制程晶圓廠均于2025年量產，并吸引蘋果、英偉達、AMD及高通等客戶爭搶產能。
發表于 03-25 11:03
?952次閱讀
Marvell將與臺積電合作2nm 以構建模塊和基礎IP
Marvell將與臺積電合作2nm 以構建模塊和基礎IP 張忠謀于1987年成立的臺灣積體電路制造股份有限公司，簡稱：
蘋果將搶先采用臺積電2nm工藝，實現技術獨享
例如，盡管iPhone 15 Pro已發布四個月，A17 Pro仍在使用臺積電專有的3nm工藝。根據MacRumors的報告，這一趨勢似乎仍
蘋果欲優先獲取臺積電2nm產能，預計2024年安裝設備生產
有消息人士稱，蘋果期望能夠提前獲得臺積電1.4nm（A14）以及1nm（A10）兩種更為先進的工藝
工商網監
評論