根據(jù)產(chǎn)業(yè)研究機(jī)構(gòu)Yole Développement（Yole）的最新研究指出，在AI、資料中心和HPC發(fā)展的推動(dòng)下，F(xiàn)CBGA封裝的營(yíng)收預(yù)期將從2020年的100億美元成長(zhǎng)至2025年的120億美元。FCBGA封裝未來(lái)五年的產(chǎn)業(yè)規(guī)模年平均復(fù)合成長(zhǎng)率（CAGR）達(dá)3%。截至2025年，F(xiàn)CBGA營(yíng)收預(yù)期將超過(guò)100億美元。晶圓需求主要來(lái)自3D堆疊元件，與2020年相較，晶圓總體成長(zhǎng)為CAGA 8.5%。

其中包含F(xiàn)CBGA、扇出型、WLCSP和3D堆疊封裝，3D堆疊IC的目標(biāo)是在未來(lái)五年中以24.8％的CAGR成長(zhǎng)，其中HBM占48%、3D占27%，而3D NAND占82%。臺(tái)積電仍保持領(lǐng)先地位，其2019年占扇出型封裝市場(chǎng)69%市占率。WLCSP封裝在智慧手機(jī)相關(guān)應(yīng)用中已經(jīng)成為不可或缺的一環(huán)。另外，日月光半導(dǎo)體、江蘇長(zhǎng)電科技、安靠科技和矽品是WLCSP晶圓市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)廠商。

從臺(tái)積電布局看3D IC的未來(lái)

中介層、EMIB、Foveros、die對(duì)die的堆疊、ODI、AIB和TSV。所有這些單詞和首字母縮寫(xiě)詞都具有一個(gè)重要的功能，它們都涉及硅的兩個(gè)位之間如何物理連接。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，可以通過(guò)印刷電路板連接兩個(gè)芯片。這種方案很便宜，但沒(méi)有太大的帶寬。在這個(gè)簡(jiǎn)單的實(shí)現(xiàn)之上，還有多種方法可以將多個(gè)小芯片連接在一起，而臺(tái)積電擁有許多這樣的技術(shù)。為了統(tǒng)一其2.5D和3D封裝變體的所有不同名稱，TSMC在早前的技術(shù)大會(huì)上推出了其新的首要品牌：3DFabric。

3DFabric作為一個(gè)品牌具有一定的意義，可以將臺(tái)積電提供的數(shù)十種封裝技術(shù)結(jié)合在一起。從廣義上講，3DFabric分為兩個(gè)部分：一方面是所有“前端”芯片堆疊技術(shù)，例如晶圓上芯片，而另一方面是“后端”封裝技術(shù)，例如InFO（Integrated Fan-Out））和CoWoS（Chip-On-Wafer-On-Substrate）。

在我們之前的文章 里，我們對(duì)這方面有了初步的說(shuō)明，來(lái)到本文，我們來(lái)深入了解一下這家晶圓代工廠的先進(jìn)封裝技術(shù)。并將其與其他工廠的相似競(jìng)爭(zhēng)技術(shù)進(jìn)行對(duì)比。

臺(tái)積電為什么聚焦先進(jìn)封裝

在大家一貫的理解中，臺(tái)積電所從事的其實(shí)是晶圓代工的業(yè)務(wù)。 但進(jìn)入新世紀(jì)，無(wú)論是臺(tái)積電，還是三星甚至 Intel，都把先進(jìn)封裝當(dāng)做公司的一大工作重點(diǎn)，這主要是在日益增長(zhǎng)的性能需求與摩爾定律的逐漸失效的矛盾影響下所演進(jìn)出來(lái)的折中結(jié)果。

如semiwiki報(bào)道所說(shuō)，對(duì)于許多其他應(yīng)用，摩爾定律不再具有成本效益，尤其是對(duì)于集成異構(gòu)功能而言，多芯片模塊（Multi-chip modules ：MCM）和系統(tǒng)級(jí)封裝（System in PackageSiP）等“Moore than Moore”技術(shù)已成為將大量邏輯和存儲(chǔ)器，模擬，MEMS等集成到（子系統(tǒng)）解決方案中的替代方案。但是，這些方法仍然是非常特定于客戶的，并且會(huì)花費(fèi)大量的開(kāi)發(fā)時(shí)間和成本。

翻看芯片發(fā)展的歷史，其實(shí)先進(jìn)封裝這個(gè)概念已經(jīng)存在了數(shù)十年。折中通過(guò)在封裝中組裝不同且先進(jìn)的芯片是推進(jìn)芯片設(shè)計(jì)的方法之一。今天，這個(gè)概念有時(shí)被稱為異構(gòu)集成。盡管如此，由于成本的原因，高級(jí)封裝主要用于高端，面向利基市場(chǎng)的應(yīng)用。

但這那可能很快就會(huì)改變。因?yàn)镮C縮放是推進(jìn)設(shè)計(jì)的傳統(tǒng)方式，它縮小了每個(gè)節(jié)點(diǎn)上的不同芯片功能，并將它們封裝到單片式芯片上。但是，IC縮放對(duì)許多人來(lái)說(shuō)變得太昂貴了，并且每個(gè)節(jié)點(diǎn)的收益都在減少。

雖然縮放仍然是新設(shè)計(jì)的一種選擇，但業(yè)界正在尋找替代方案，包括高級(jí)封裝。而變化的是，該行業(yè)正在開(kāi)發(fā)新的高級(jí)封裝類型或擴(kuò)展現(xiàn)有技術(shù)。

高級(jí)封裝背后的動(dòng)機(jī)仍然是相同的。與其將所有芯片功能塞在同一個(gè)芯片上，不如將它們分解并將它們集成到一個(gè)封裝中。據(jù)說(shuō)這可以降低成本并提供更好的產(chǎn)量。另一個(gè)目標(biāo)是使芯片彼此靠近。許多先進(jìn)分裝使內(nèi)存更接近處理器，從而以較低的延遲更快地訪問(wèn)數(shù)據(jù)。

這聽(tīng)起來(lái)很簡(jiǎn)單，但是這里有幾個(gè)挑戰(zhàn)。另外，沒(méi)有一種可以滿足所有需求的封裝類型。實(shí)際上，芯片客戶面臨著各種各樣的選擇。其中：扇出（晶圓級(jí)封裝中的集成die和組件）、2.5D / 3D（芯片在封裝中并排放置或彼此疊放）和3D-IC：（在內(nèi)存上堆疊內(nèi)存，在邏輯上堆疊或者在邏輯上堆疊邏輯）就成了三種常見(jiàn)的選擇。

此外，業(yè)界也正在追求一種稱為Chiplets的概念，該概念支持2.5D / 3D技術(shù)。這個(gè)想法是您在庫(kù)中有一個(gè)模塊化芯片或小芯片的選擇。然后，將它們集成到一個(gè)封裝中，并使用die到die的互連方案將它們連接起來(lái)。

在臺(tái)積電方面，為了滿足市場(chǎng)對(duì)新型多芯片IC封裝解決方案的需求，他們也與其OIP合作伙伴合作開(kāi)發(fā)了先進(jìn)的IC封裝技術(shù)，以提供經(jīng)濟(jì)的解決方案，以實(shí)現(xiàn)摩爾定律以外的集成。

2012年，TSMC與Xilinx一起推出了當(dāng)時(shí)最大的FPGA，它由四個(gè)相同的28 nm FPGA芯片并排安裝在硅中介層上。他們還開(kāi)發(fā)了硅通孔（TSV），微凸點(diǎn)和再分布層（re-distribution-layer：RDL），以將這些構(gòu)件相互連接。臺(tái)積電基于其構(gòu)造，將該集成電路封裝解決方案命名為CoWoS（Chip-on-Wafer-on-Substrate）。這種基于積木和EDA支持的封裝技術(shù)已成為高性能和高功率設(shè)計(jì)的實(shí)際行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

臺(tái)積電于2017年宣布了InFO（Integrated FanOut technology）技術(shù)。它使用polyamide film代替CoWoS中的硅中介層，從而降低了單位成本和封裝高度，這兩項(xiàng)都是移動(dòng)應(yīng)用成功的重要標(biāo)準(zhǔn)。臺(tái)積電已經(jīng)出貨了海量用于智能手機(jī)的InFO設(shè)計(jì)。

臺(tái)積電于2019年又推出了集成芯片系統(tǒng)（SoIC）技術(shù)。借助前端（晶圓廠）設(shè)備，TSMC可以非常精確地對(duì)準(zhǔn)，然后使用許多窄間距的銅焊盤(pán)進(jìn)行壓焊（compression-bond）設(shè)計(jì)，以進(jìn)一步最小化形狀因數(shù)，互連電容和功率。

這兩種技術(shù)就逐漸演進(jìn)成了今天的3D Fabric。

TSMC-SoIC：前端芯片堆疊

按照臺(tái)積電方面的定義，諸如CoW（chip-on-wafer）和WoW（wafer-on-wafer）等前 端芯片堆疊技術(shù)統(tǒng)稱為“ SoIC”，即集成芯片系統(tǒng)（System of Integrated Chips）。 這些技術(shù)的目標(biāo)是在不使用后端集成選項(xiàng)上看到的“bumps”的情況下，將硅片堆疊在一起。 在這里，SoIC設(shè)計(jì)實(shí)際上是在創(chuàng)建鍵合接口，以便硅可以放在硅的頂部，就好像它是一整塊硅一樣。

根據(jù)臺(tái)積電官方介紹，公司的SoIC服務(wù)平臺(tái)提供創(chuàng)新的前段3D芯片間堆疊技術(shù)，用于重新集成從片上系統(tǒng)（SoC）劃分的小芯片。最終的集成芯片在系統(tǒng)性能方面優(yōu)于原始SoC。它還提供了集成其他系統(tǒng)功能的靈活性。臺(tái)積電指出，SoIC服務(wù)平臺(tái)可滿足云，網(wǎng)絡(luò)和邊緣應(yīng)用中不斷增長(zhǎng)的計(jì)算，帶寬和延遲要求。它支持CoW和WoW方案，而這兩種方案在混合和匹配不同的芯片功能、尺寸和技術(shù)節(jié)點(diǎn)時(shí)提供了出色的設(shè)計(jì)靈活性。

具體而言，臺(tái)積電的SoIC技術(shù)是將多個(gè)die堆疊到“ 3D構(gòu)造塊”（又稱為“ 3D Chiplet”）中的一種非常強(qiáng)大的方法。

如今，SoIC在垂直堆疊的芯片之間的每平方毫米空間能夠?qū)崿F(xiàn)約10，000個(gè)互連。但看法這正在進(jìn)行向每平方毫米100萬(wàn)個(gè)互連的開(kāi)發(fā)工作。3D-IC愛(ài)好者一直在尋找一種能夠?qū)崿F(xiàn)這種細(xì)微互連，進(jìn)一步減小外形尺寸，消除帶寬限制，簡(jiǎn)化die堆疊中的熱量管理以及將大型、高度并行系統(tǒng)集成到其中的IC封裝方法。

SoIC的好處之一體現(xiàn)在在其熱性能：

面對(duì)面SoIC鍵合的熱阻比微凸點(diǎn)連接降低35％，并且隨著我們進(jìn)入具有多個(gè)封裝芯片的計(jì)算的未來(lái)，管理這些接口以進(jìn)行散熱要更加難。但是，這些SoIC技術(shù)的不利之處在于，堆疊設(shè)計(jì)必須彼此協(xié)同設(shè)計(jì)。

諸如EMIB之類的微凸點(diǎn)技術(shù)以一種技術(shù)上可以將一系列芯片連接在一起的方式進(jìn)行。使用類似COW和WOWO的SoIC技術(shù)，則從一開(kāi)始就固定了設(shè)計(jì)。

盡管如此，臺(tái)積電仍熱衷于提高其SoIC芯片堆疊能力，他們還展示了12層的堆疊。

根據(jù)臺(tái)積電的規(guī)劃，這是他們面向未來(lái)集成的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，它超越了過(guò)去的中介層或芯片堆疊的實(shí)現(xiàn)方式，因?yàn)樗试S在不使用任何微凸點(diǎn)的情況下堆疊硅芯片，而直接將硅的金屬層對(duì)準(zhǔn)并鍵合到硅芯片上。

如上圖所示，TSMC當(dāng)前正在探索SoIC的12-Hi配置。12-Hi堆疊中的每個(gè)die都有一系列的硅通孔（TSV），以使每一層與其余層通信，其中心思想是每一層可以是邏輯的不同組件 ：如SRAM的IO，或者可以是無(wú)源的，這樣他們可以充當(dāng)其他主動(dòng)層之間的絕熱層。

按照TSMC的說(shuō)法，這種設(shè)計(jì)的最大厚度為600微米，這就意味著每一層的厚度均在50微米以下。請(qǐng)注意，標(biāo)準(zhǔn)的傳統(tǒng)die堆疊解決方案上的凸點(diǎn)間距可以約為50微米。對(duì)于SoIC，N7 / N6芯片的混合鍵合間距為9μm，N5芯片的混合鍵合間距為6μm。它表明，臺(tái)積電擁有一些令人印象深刻的線性制造和晶圓減薄技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)這種水平的一致性和die對(duì)準(zhǔn)。該公司甚至展示了將其減小到0.9μm的能力，該規(guī)模將使其能夠擴(kuò)展硅芯片的后端互連。

自然地，人們擔(dān)心沒(méi)有微凸點(diǎn)的兩個(gè)硅如何聯(lián)結(jié)，此外還有密度和可靠性的問(wèn)題。臺(tái)積電表示，他們可以以非常可靠的格式展示出可靠的0.9微米鍵距。如果我們將其與英特爾路線圖上最佳的凸點(diǎn)間距堆疊進(jìn)行比較，該公司的目標(biāo)是10微米的凸點(diǎn)間距，那就意味著這要高出一個(gè)數(shù)量級(jí)。在這種情況下，對(duì)于有意義的芯片，SoIC可提供更好的連接密度和更低的每位能量。

臺(tái)積電計(jì)劃在其N7，N5和N3工藝節(jié)點(diǎn)上提供SoIC選項(xiàng)，屆時(shí)TSV的間距將從9微米減小到4.5微米。臺(tái)積電期望這個(gè)技術(shù)能有規(guī)劃地發(fā)布，在每個(gè)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入大批量生產(chǎn)后大約6-12個(gè)月就會(huì)出現(xiàn)新的選項(xiàng)。

臺(tái)積電后端先進(jìn)封裝：與Intel競(jìng)爭(zhēng)

封裝中的另一個(gè)相對(duì)簡(jiǎn)單的方案就是在一個(gè)封裝中連接兩個(gè)硅芯片。通常，這是通過(guò)兩塊硅片并排進(jìn)行的，并采用多種連接方式。大多數(shù)人最熟悉的是中介層方法，該方法將一大塊硅片置于所有互連的die下面，并且比簡(jiǎn)單地通過(guò)PCB封裝鋪設(shè)走線，它的布線方法更快捷。

類似地，另一種方法是將中介層嵌入在PCB中，僅用于將一個(gè)特定的die連接到另一個(gè)die（這就是Intel稱為其嵌入式多管芯互連橋或EMIB）。

英特爾等效的EMIB解決方案

第三個(gè)是die對(duì)die的直接垂直堆疊，但是，由于在兩塊硅片之間使用了微凸塊，因此這與上面提到的SoIC實(shí)現(xiàn)不同——SoIC使用了鍵合。實(shí)際上，臺(tái)積電下半年產(chǎn)品中的所有實(shí)現(xiàn)都是基于微凸塊的，因?yàn)檫@允許在制造完每個(gè)芯片之后更好地混合和匹配不同芯片之間的場(chǎng)景，但是并沒(méi)有獲得SoIC提供的密度或功耗優(yōu)勢(shì)。

這就是為什么它被稱為“后段”高級(jí)封裝的原因。舉個(gè)例子，具有HBM功能的GPU就是通過(guò)這樣實(shí)現(xiàn)的。

許多支持HBM的GPU具有一個(gè)GPU裸片，幾個(gè)HBM裸片，所有這些裸片都放置在中介層的頂部。GPU和HBM由不同公司制造（甚至可以使用不同的HBM），而硅中介層也可以在其他地方制造。該硅中介層可以是無(wú)源的（不包含邏輯，僅僅是die到die間的路由），也可以是有源的，并且如果需要，可以設(shè)計(jì)為在芯片之間實(shí)現(xiàn)更好的網(wǎng)絡(luò)互連，盡管這意味著中介層會(huì)消耗電源。

臺(tái)積電類似GPU中介層的策略在過(guò)去一直被稱為CoWoS（chip-on-wafer-on-substrate）。作為3DFabric的一部分，從實(shí)現(xiàn)方式上劃分，CoWoS現(xiàn)在具有三個(gè)變體：

每個(gè)人都熟悉的標(biāo)準(zhǔn)稱為CoWoS-S，其中S代表Silicon Interposer。CoWoS-S的局限性在于中介層的尺寸，該終結(jié)通常基于65nm制造工藝或類似工藝制造。由于中介層是單片硅片，因此必須類似地制造，并且隨著我們進(jìn)入小芯片時(shí)代，客戶要求越來(lái)越大的中介層，這意味著臺(tái)積電必須能夠制造它們（并提供高產(chǎn)量） 。

傳統(tǒng)芯片受標(biāo)線（reticle）的大小限制，這是機(jī)器內(nèi)部的基本限制，即在單個(gè)實(shí)例上可以“打印”一層的大小。為了使芯片尺寸為標(biāo)片大小的產(chǎn)品成為可能，TSMC一直在開(kāi)發(fā)多標(biāo)線大小的插入器技術(shù)，以使這些產(chǎn)品更大。基于臺(tái)積電自己的路線圖，我們預(yù)計(jì)2023年的CoWoS實(shí)施將是標(biāo)線的四倍左右，每個(gè)產(chǎn)品將允許超過(guò)3000 平方毫米的有源邏輯硅。

由于CoWoS-S是以ASIC + HBM的組合實(shí)現(xiàn)，因此臺(tái)積電也正在為標(biāo)準(zhǔn)架構(gòu)實(shí)施一個(gè)稱為CoWoS-S STAR的技術(shù)路線。這將使客戶能夠在針對(duì)2/4/6 HBM堆棧的特定設(shè)計(jì)協(xié)議內(nèi)工作，最小化中介層的尺寸，還可以加快產(chǎn)品上市時(shí)間并提高良率。

CoWoS-L則是另一種變體，使用局部硅互連和重新分布層。這里的關(guān)鍵詞是“本地”，這意味著它將兩個(gè)硅芯片本地連接在一起。這是一項(xiàng)與英特爾EMIB相同的方法。英特爾的EMIB已經(jīng)用于多種產(chǎn)品（Kaby-G，Stratix 10，Agilex FPGA），但臺(tái)積電目前僅在預(yù)認(rèn)證階段。臺(tái)積電似乎實(shí)現(xiàn)CoWoS-L的方式是將所有橋接互連一次放置在一個(gè)封裝上，因此該技術(shù)受到與每個(gè)互連的最大距離的限制。如下圖所示，TSMC的目標(biāo)是在2021年第二季度為CoWoS-L提供3.0倍標(biāo)線。

InFO封裝使芯片可以“扇出”，以在 SoC標(biāo)準(zhǔn)平面圖之外增加其他連接。這意味著，雖然芯片邏輯區(qū)域可以很小，但芯片要比邏輯電路更大以容納所有必需的引腳輸出連接。臺(tái)積電提供InFO已經(jīng)有很多年了，但是在3DFabric的支持下，它現(xiàn)在將提供與封裝內(nèi)連接有關(guān)的不同類型的InFO。

InFO-R（也稱為InFO_oS）允許在芯片和微凸塊之間添加重新分布層，以將多個(gè)芯片統(tǒng)一為一個(gè)封裝。這是另一種技術(shù)，其限制因素是該技術(shù)的x / y尺寸（以標(biāo)線片尺寸衡量）。自2018年以來(lái)，目前臺(tái)積電以1.5倍標(biāo)線支持InFO-R，并將在2020年第四季度升級(jí)到1.7倍標(biāo)線，到2021年第一季度將達(dá)到2.5倍標(biāo)線。

InFO-L與CoWoS-L相似之處在于，它使用局部硅互連將多個(gè)InFO die連接在一起。這項(xiàng)技術(shù)仍在開(kāi)發(fā)中，預(yù)計(jì)將于2021年第一季度完成認(rèn)證。

TMSC的封裝技術(shù)也可以結(jié)合在同一產(chǎn)品中。通過(guò)同時(shí)實(shí)現(xiàn)前端（SoIC）和后端（InFO）封裝，可以制造出新的產(chǎn)品類別。該公司制作了一個(gè)這樣的模型：

從表面上看，臺(tái)積電將在未來(lái)幾年為客戶提供更多的封裝選擇。他們?cè)谶@方面的主要競(jìng)爭(zhēng)者似乎是英特爾，后者已經(jīng)能夠在一些當(dāng)前產(chǎn)品和某些即將發(fā)布的產(chǎn)品中實(shí)現(xiàn)其EMIB和Foveros技術(shù)。臺(tái)積電將受益于與更多項(xiàng)目和客戶合作。

之前臺(tái)積電董事會(huì)通過(guò)了建設(shè)竹南先進(jìn)封測(cè)廠的決定。據(jù)報(bào)道，該廠選址為苗栗縣竹南科學(xué)園區(qū)。該封測(cè)廠預(yù)計(jì)總投資額約合人民幣716.2億元，計(jì)劃明年年中第一期產(chǎn)區(qū)運(yùn)轉(zhuǎn)。這對(duì)于臺(tái)積電來(lái)說(shuō)必然是一件好事，但對(duì)于傳統(tǒng)OSAT來(lái)說(shuō)，這并不是什么好消息。
責(zé)任編輯:tzh