全球最先進的1nm EUV光刻機業已完成設計
想想幾年前的全球半導體芯片市場，真的可謂哀嚎一片，一時間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天，我們不僅看到5nm工藝如期而至，臺積電宣布2nm獲得重大進展，就連光刻機的老大ASML也傳來捷報，全球最先進的1nm EUV光刻機業已完成設計。
ASML已完成1nm光刻機設計
近日，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術細節。具體來看，ASML對于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。
顯然，1nm光刻機需要更強大的物理極性，2nm之后需要更高分辨率的曝光設備。目前已經投入量產的7nm、5nm工藝已經引入了0.33NA的EUV曝光設備，而ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計，預計在2022年實現商業化。
很高興看到摩爾定律又起效了！
責任編輯:pj
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
臺積電
+關注
關注
44文章
5651瀏覽量
166675 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1153瀏覽量
47454 -
半導體芯片
+關注
關注
60文章
919瀏覽量
70667
發布評論請先 登錄
相關推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發燒友網報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產的關鍵，但目前
組成光刻機的各個分系統介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統 ? 光源系統是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（
日本首臺EUV光刻機就位
本月底完成。 Rapidus 計劃 2025 年春季使用最先進的 2 納米工藝開發原型芯片，于 2027 年開始大規模生產芯片。 EUV 機器結合了特殊光源、鏡頭和其他技術，可形成超精細電路圖案。該系統體積小，不易受到振動和其他
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造：光刻技術的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術的發展，但當光刻機的光源波長卡在193
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位，被譽為芯片制
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機，加快開發1nm 芯片 ? 據報道，三星電子正準備在2025年初引入其首款High NA
發表于 10-31 10:56
?829次閱讀
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產線
俄羅斯推出首臺光刻機：350nm
來源：IT之家，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 據外媒報道，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak表示，該設備可確保生產350納米工藝
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意，未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭（包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable）臺積電相應機器，而且還可以包括最先進的極紫外光刻機（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經連
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機，已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發貨了第二臺High NA EUV光刻機，并且已成功印刷出10納米線寬圖案，這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
英特爾突破技術壁壘：首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作，以確保其能夠順利融入未來的生產線。
光刻機的發展歷程及工藝流程
光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
發表于 03-21 11:31
?6449次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASML 在 X 平臺
工商網監
評論