作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備,光刻機無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠,特別是先進工藝的光刻機,7nm以下的都要依賴ASML公司,EUV光刻機他們還是獨一份。
日前在上海的第三屆進出口博覽會上,ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波在采訪中表示,他們對進博會開放、合作的理念很認同,這也是ASML公司長期以來支持行業(yè)和客戶發(fā)展的信念。
沈波透漏,ASML與中國的淵源極深,最早一臺光刻機是于1988年進入中國,迄今已經(jīng)32年了。
2000年ASML還在天津正式成立了分公司,目前已在中國設(shè)有12個辦公室,11個倉儲物流中心,2處開發(fā)中心,1個培訓(xùn)中心,共擁有1000多名員工。
根據(jù)沈波的消息,這么多年來他們已經(jīng)為中國國內(nèi)地區(qū)的半導(dǎo)體客戶累積提供了700多臺裝機。
隨著國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,國內(nèi)客戶購買的光刻機等產(chǎn)品也越來越多,根據(jù)ASML的財報,今年Q2、Q3季度中,公司發(fā)往國內(nèi)地區(qū)的光刻機占了全球銷量的20%。
在這次進博會上,ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案,包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù),讓邊緣定位精度不斷提高,目前的DUV光刻機可以制造7nm及以上工藝的半導(dǎo)體芯片。
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