正在進(jìn)行的第三屆進(jìn)博會(huì)上，***巨頭ASML也參展了，并且還在自己的展臺(tái)上曬出展示了DUV***。

據(jù)悉，ASML之所以沒有展示新的EUV***，主要是因?yàn)樗麄兡壳叭圆荒芟蛑袊?guó)出口EUV***，而此次展示的DUV***可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進(jìn)控制能力的***臺(tái)計(jì)算光刻和測(cè)量通過建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。

在這之前，ASML CFO Roger Dassen在財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中談到了與中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的業(yè)務(wù)情況，其表示一些情況下，出口***是不需要許可證的。

Roger Dassen指出，ASML了解美國(guó)當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋，當(dāng)然也知道這些與特定的中國(guó)客戶密切相關(guān)，但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對(duì)ASML的總體含義（對(duì)于特定的中國(guó)客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國(guó)客戶提供DUV光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。

美國(guó)僅僅是限制了美國(guó)不能給中國(guó)出口芯片、***等，但并沒有限制其他國(guó)家對(duì)中國(guó)進(jìn)口，荷蘭并不在美國(guó)的禁令范圍內(nèi)。

目前的***主要分為EUV***和DUV***。DUV***，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長(zhǎng)雖然有193nm，但等效為134nm，經(jīng)過多重曝光后，液浸式***也能夠達(dá)到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會(huì)使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

EUV***采用13．5nm波長(zhǎng)的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）***能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV***，芯片巨頭臺(tái)積電、三星、Intel的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

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