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多種MOSFET雙脈沖測試,探討MOSFET的反向恢復特性

454398 ? 來源:ROHM技術社區 ? 作者:ROHM技術社區 ? 2020-12-21 14:25 ? 次閱讀

本文我們將根據使用了幾種MOSFET的雙脈沖測試結果,來探討MOSFET的反向恢復特性。該評估中的試驗電路將使用上一篇文章中給出的基本電路圖。另外,相應的確認工作也基于上次內容,因此請結合上一篇文章的內容來閱讀本文。

通過雙脈沖測試評估MOSFET反向恢復特性

為了評估MOSFET的反向恢復特性,我們使用4種MOSFET實施了雙脈沖測試。4種MOSFET均為超級結MOSFET(以下簡稱“SJ MOSFET”),我們使用快速恢復型和普通型分別進行了比較。

先來看具有快速恢復特性的SJ MOSFET R6030JNZ4(PrestoMOS?)和具有通常特性的SJ MOSFET R6030KNZ4的試驗結果。除了反向恢復特性之外,這些SJ MOSFET的電氣規格基本相同,在試驗中,將Q1和Q2分別替換為不同的SJ MOSFET。

圖1為上次給出的工作③的導通時的ID_L波形,圖2為導通損耗Eon_L的波形。

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圖1:快速反向恢復型PrestoMOS?和普通型SJ MOSFET的漏極電流ID_L的波形

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圖2:快速反向恢復型PrestoMOS?和普通型SJ MOSFET的功率損耗Eon_L的波形

從圖1可以看出,快速反向恢復型R6030JNZ4(PrestoMOS?)的Q1的反向恢復電流Irr和反向恢復電荷Qrr要比普通型R6030KNZ4小得多。

從圖2可以看出,Qrr較大的普通型MOSFET的導通損耗Eon_L要比快速反向恢復型大,可見當Q1的Qrr變大時,開關損耗就會增加。

接下來請看相同條件下快速反向恢復型R6030JNZ4(PrestoMOS?)和另一種快速反向恢復型SJ MOSFET之間的比較結果。圖3為與圖1同樣的ID_L波形比較,圖4為與圖2同樣的Eon_L比較。

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圖3:快速反向恢復型R6030JNZ4和另一種快速反向恢復型SJ MOSFET的漏極電流ID_L的波形

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圖4:快速反向恢復型R6030JNZ4和另一種快速反向恢復型SJ MOSFET的功率損耗Eon_L的波形

如圖3所示,與另一種快速反向恢復型SJ MOSFET相比,R6030JNZ4(PrestoMOS?)的Irr和Qrr更小,因此ID_L的峰值較小,如圖4所示,其結果是Eon_L較小。

從這些結果可以看出,將MOSFET體二極管特性中的反向恢復電流Irr和反向恢復電荷Qrr控制在較小水平的MOSFET,其導通損耗Eon_L較小。這一點對快速反向恢復型之間進行比較也是同樣的結論。所以,在設計過程中,要想降低損耗時,需要通過這樣的方法對MOSFET的反向恢復特性進行評估,并選擇最適合的MOSFET。

最后,提一個注意事項:在本次研究中,設定的前提是具有快速反向恢復特性的MOSFET是可以降低損耗的,但在某些情況下,具有快速反向恢復特性的MOSFET是無法降低導通損耗的。其原因之一是誤啟動現象。這是由MOSFET的柵極電容引起的現象。關于誤啟動,將會在下一篇文章中進行詳細說明。

關鍵要點:

?反向恢復電流Irr和反向恢復電荷Qrr較低的MOSFET,導通損耗EON_L也較小。

?快速反向恢復型MOSFET之間進行比較也得出同樣的結論。

?對MOSFET的反向恢復特性進行評估對于降低損耗非常重要。

?請注意,受誤啟動現象的影響,有時即使MOSFET具有快速恢復特性,也無法降低導通損耗。
編輯:hfy

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